TF-2000-9無鹵清洗劑

技術資料表

清洗劑TF-2000-9

現(xiàn)行工業(yè)清洗行業(yè)使用的氟里昂、鹵代烴等ODS(指CFC-113,1.1.1-三氯乙烷,四氯化碳)物質,破壞地球高空臭氧層,危害人類生態(tài)環(huán)境,是國際上《關于臭氧層耗損物質的蒙特利爾議定書》限期停止生產(chǎn)和使用的物質。本產(chǎn)品不含氟利昂、氯代烴及芳香烴類溶劑,其廢液經(jīng)蒸餾回收后還可以反復使用,故使用本品不會引起臭氧層破壞和環(huán)境污染。
本產(chǎn)品適用半導體硅片、印刷電路板、精密零件、液晶材料、光學鏡片、離子鍍膜零件、電鍍零件、音頻磁頭、磁性材料等清洗領域去除無機雜質、油污、松香及其它樹脂焊劑等污染物。其性能穩(wěn)定、快干、清洗效率高。對金屬、塑料和橡膠制品無腐蝕作用。同方公司研制的TF-2000-9清洗劑是電子工業(yè)界清洗工藝中必不可少的選擇。本產(chǎn)品在同方的客戶群中得到廣泛使用,主要使用客戶有:順達電腦、精成科技等幾十家知名品牌企業(yè)。

TF-2000-9清洗劑屬第3類易燃液體,在使用及貯存方面須嚴格按照本產(chǎn)品的MSDS要求操作。

一、主要性能

 


序號

項目

TF-2000-9

01

外觀

無色透明液體

02

沸點℃

81±5℃

03

密度(20℃)

0.957±0.005

04

閃點℃

6

05

PH值

6.5

06

燃點℃

469

07

蒸發(fā)熱(b.p.,KJ/mol)

32.54

08

殘留物(%)

<0.03

09

濕潤時間(sec)

3

10

表面張力(20℃,N/M)

23.28×10-3

11

離子殘留量(μg.NaCl/in2

0

12

白色殘留率(%)

0

13

臭氧破壞系數(shù)(ODP)

0

符合歐盟無鹵要求:Cl<900PPM,Br<900PPM,Cl+ Br<1500PPM

二、使用方法
可采用超聲波、蒸氣、發(fā)泡、噴淋、手洗等多種清洗方式。超聲波清洗時間10-20秒,干燥時間(室溫)10-20秒。

三、操作注意事項
本品為易燃品,作業(yè)處要求通風良好。存放時要遠離火源,在陰冷通風處保存;
本品在采用超聲波清洗時,超聲波要選用帶有冷凝管的裝置并設置冷凝溫度,加強溶劑回收利用,保證溶劑作業(yè)環(huán)境濃度得到控制。
本品用超聲波進行加熱清洗時,設定的加熱溫度不能超過清洗劑的沸點溫度上限值(沸點溫度見本品的規(guī)格書);
超聲波清洗時,要針對超聲波槽的容量加入適量的清洗劑,加入的量不能低于清洗槽中的發(fā)熱管的高度;
本清洗劑進行使用時不可以和其他的溶劑、油類或水份等混合使用。